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光化学离子除臭

发布日期:2015-10-23  浏览次数:6846

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文章摘要:光化学离子设备除臭原理 光化学离子除臭工艺是一种安全可靠的处理方法,除臭效率高。其原理为离子辐射直接活化臭气分子发生分解

光化学离子设备除臭原理
      光化学离子除臭工艺是一种安全可靠的处理方法,除臭效率高。其原理为离子辐射直接活化臭气分子发生分解的直接反应与辐射活化其它气体分子再分解臭气分子的间接反应相结合的一种高级氧化技术,综合利用了高强辐照场离子对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用来去除恶臭气体中硫化氢、氨、甲硫醇等VOC(挥发性有机物),并利用了水与氧在强辐照下分解所产生的活泼的次生氧化剂(OH自由基)来氧化分解恶臭气体,改变臭气分子的物化特性,最终污染物质被活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以达到除臭目的。高强辐射场和氧一道,存在一个协同作用,这种协同作用使该技术对恶臭去除臭的速率得到7至9个数量级的增加,即反应速度增加千万至十亿倍。整个除臭过程中受外界影响少,所有的产物对人体及空气无影响,不产生二次污染物。
光化学离子降解硫化氢、氨、甲硫醇
1、  硫化氢
      硫化氢的光化学反应如下
     O3+hv→O2+?O
     ?O+H2O→2?OH
     ?O+O2→O3
     H2S+O3+hv→S2-+H2O+O2
2、  氨
      氨同样可以在光化学离子有害气体处理设备中得到较好的去除,发生初级光化学离子反应后的分子或者自由基吸收辐射后继续发生化学变化,产生的产物能够进一步参与次级化学过程。氨的光降解涉及以下反应:
(1)触发反应
      O3+hv→O2+?O
      O2+hv→?O +?O
      NH3+hv→?NH+2?H
      O3+OH-→?HO2 +?O2-
      ?HO2→?O2-+H+
(2)传递过程
      ?O+H2O→2?OH
      ?O+O2→O3
      ?O2-+O3→?O3-+O2
      ?O3-+H+→??HO3
      2?NH→N2+2?H
(3)终止反应
      2?NH+?O→N2+H2O
3、  甲硫醇
      甲硫醇的光化学离子反应和硫化氢的类似,同样是因为HS-结构型式的破坏而失去臭味。
      O3+hv→O2+?O
      ?O+H2O→2?OH
      ?O+O2→O3
      HS-+O3+hv→S2-+?OH +O2
光化学离子设备技术特点
      1. 光化学技术是一种经济有效的实用技术:通常处理的恶臭气体具有量大、浓度低的特点,极适合光化学反应这一低耗高效的处理技术。
      2. 反应速度快,除臭效果优良:辐照场和氧存在着一个协同作用,试验表明这种协同作用使该技术对恶臭去除的速率得到7至9个数量级的增加,这样设备的体积小,占地和空间小,尤其对于改造,增设的情况。
      3. 模块化的产品构造,可以灵活搭配使用,适合臭气源分块、分期独立处理。
      4. 设备运行稳定:设备内部无高温高压等特殊部件,耐腐蚀,运行安全稳定,开启后无需特别的保养管理。
      5. 设备的维护工作量小:光/氧反应过程受外部环境影响甚小,除臭效果可以较持续稳定,管路维护工作简单。
      6. 设备风阻小,仅有250Pa左右,运行费用低,操作简单方便。
      7. 设备的核心部件--反射管采用顶级品质的进口光源,可稳定、高效的输出反应所需的短波光子能量,使用寿命长。
      8. 设备可设定就地手动控制、PLC自动控制;设定设备的正常运行、经济运行模式;提供远程传递运行信息与故障等信号。
 
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