1 前言
随着氟在我国冶金、化工、玻璃、电子、半导体器件等工业部门的广泛使用,含氟废水的排放量不断增大,对其处理也已引起了人们的关注.为此,我国制定工业废水中氟的排放标准为10mg/L(GB8978-1996中一二级标准).
目前尽管用于含氟废水处理的方法很多,如石灰法、铝盐法、活性炭吸附法、离子交换树脂法、电渗析法等,但用来处理酸性高氟废水,大多存在处理费用高,操作量大的缺点.在半导体器件生产过程中,需用氢氟酸溶液进行清洗,针对这种含氟废水的特点,本文采用氯化钙和磷酸盐进行沉淀处理收到良好效果.此法材料价廉易得、成本小、残氟低,可用于工业含氟废水的治理.