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半导体厂含氟废水的深度处理

发布日期:2011-05-06  浏览次数:704

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文章摘要:1前言离子交换法除去水中氟可使F一达到比较低的浓度,但此法操作麻烦、成本高。工业废水中通常用药剂混凝法除氟。按国家标准(GB8

1前言

离子交换法除去水中氟可使F一达到比较低的浓度,但此法操作麻烦、成本高。工业废水中通常用药剂混凝法除氟。按国家标准(GB8978 - 88)要求,处理后的废水含氟量在l Omg /L以一F即达到排放标准。目前有关除氟的文献多是研究将废水处理到F一含量为lOmg /L的方法r1,有人[n报道过用3000mg/L的FeC13可将300mg/L含氟废水处理到5.4mg/Lo

广州半导体厂面临珠江、靠近广州自来水厂水源。该厂每天排放约35t含氟水。原

废水pH值2一3,含氟量为25一75mg压。该厂采用石灰一氯化钙一铝盐等药剂处理,但由于工艺条件掌握得不好,除氟效果差,处理后的废水中仍含F-10一20mg压,这样对水厂水源造成威胁。现在环保部门要求该厂排放废水中的F一含量控制在3mg压以下。我们在不改变该厂所使用药剂的前提下,对除氟的深度处理工艺条件进行新的探索,并探讨了混凝法深度除氟的作用机理。

 
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